2025

全国纺织印染助剂技术创新论坛


在全球“双碳”目标与我国“十四五”产业升级规划的双重驱动下,纺织印染行业处于绿色转型与技术革新的关键期。一方面,国际纺织供应链格局重塑,出口欧盟市场绿色壁垒不断升级,我国《印染行业水污染物排放标准》等环保政策持续收紧,倒逼企业突破传统助剂高污染、高能耗的技术瓶颈;另一方面,消费市场对绿色、健康纺织品的青睐,导致环保型纺织印染助剂市场需求飙升,而高端化、智能化、绿色化生产技术在行业内的渗透率却明显不足,供需矛盾亟待破解。在此背景下,中国日用化学研究院和表面活性剂国家工程研究中心在成功组织举办“2024全国纺织印染助剂制备实用技术培训”和“2025中国纺织印染助剂技术交流大会”的基础上,决定于2025年7月在广州举办“2025全国纺织印染助剂技术创新论坛”,旨在搭建产学研用深度融合的交流平台,推动环保型助剂的研发革新,加速绿色制造、纳米技术、生物酶等前沿成果的产业化应用,助力企业消除国际绿色贸易壁垒,实现从“跟跑”到“领跑”的跨越式发展,为我国纺织印染产业高质量发展注入核心动能。现就有关事项通知如下:


组织机构

主办单位

表面活性剂国家工程研究中心

中国日用化学研究院

承办单位

表面活性剂和洗涤剂行业 生产力促进中心

中国日用化学工业信息中心

协办单位

浙江纺织服装学院染整技术研究所

广东职业技术学院轻工与材料学院

技术支持

中国表面活性剂产业联盟科学技术委员会

中国轻工业表面活性剂重点实验室

功能性表面活性剂山西省重点实验室

支持单位:

滨江月荣国际贸易(上海)有限公司


时间地点

时间:2025年7月16日—18日

地点:广州人和白云机场希尔顿欢朋酒店(白云区人和镇方华公路1318号)


报告主题

1、我国印染行业行情分析、行业运行现状及发展趋势;

2、国内外纺织印染助剂行业最新政策法规及解读;

3、国内外最新纺织印染助剂(尤其是生物基助剂、纳米材料和绿色化学品等)的研究成果及进展;

4、新型环保/可降解纺织印染助剂的开发与应用;

5、纺织功能助剂(如氟硅整理剂、无氟防水剂、阻燃剂等)的开发与应用;

6、节能减排染整关键技术及配套助剂开发与应用;

7、国内外新型表面活性剂的开发及在纺织印染助剂中的应用;

8、新型有机硅产品的研发及在纺织印染助剂中的应用;

9、特种功能性表面活性剂和其他功能性原料的应用研究;

10、纺织印染助剂中替代性产品开发及研究进展;

11、碳中和背景下的染整新工艺及对纺织印染助剂的新要求;

12、低碳印染工艺与碳足迹评价;

13、智能纺织印染助剂与工艺控制;

14、纺织化学品进出口情况及技术进展;

15、国际纺织品有害物质监控及限制的变化;

16、纺织印染助剂企业安全生产及关键环节控制;

17、纺织印染处理方法及阶段助剂性能评价;

18、印染废水处理与资源化利用;

19、纺织品染整质量问题和环保问题与助剂的相关性及解决方案。


同期活动

2025全国纺织印染助剂制备

实用技术培训


论坛注册

1、收费

1)注册费:正常参会,1500元/人;中国表面活性剂产业联盟会员单位及联盟会员推荐单位,1200元/人。费用包含报名费、资料费、参会费、增值税税费等。

缴费方式:请将注册费通过银行汇至以下账户(汇款用途请注明“2025助剂论坛+个人姓名”):

账 户:表面活性剂和洗涤剂行业生产力促进中心

帐 号:11052701040002685

开户行:中国农业银行股份有限公司北京农大南路支行

联行号:103100005508

2)住宿统一安排(协议酒店:希尔顿欢朋酒店,350元/间•晚;欧邦空港假日酒店,258元/间•晚;凯里亚德酒店,268元/间•晚),费用自理,由酒店开具发票。

2、请参加论坛人员下载附件报名表,填好后请于2025年7月10日前发送至邮箱:peixun@ridci.cn,并加李倩老师的微信(18501058562)开具电子发票。

参会回执——2025全国纺织印染助剂技术创新论坛.docx


论坛赞助

本次论坛拟设新原料、新产品、新设备展示与推介环节,有意推广宣传的单位,请与论坛秘书处联系咨询,热忱欢迎业内企业积极参与赞助。


论坛秘书处

表面活性剂和洗涤剂行业生产力促进中心

地 址:北京市海淀区永丰基地永澄北路2号院1号楼B座(100094)

电 话:010-58937468


中国日用化学工业信息中心

地 址:山西省太原市迎泽区文源巷34号(030001)

电 话:0351-4076945

电 邮:peixun@ridci.cn


联系人

李保林(15303410672)

李 倩(18501058562)

弓  昕(15235158122)

安泽鹏(17835411200)

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坚强后盾(Ⅰ)|(Ⅱ)|(Ⅲ)|(Ⅳ)