公司成立于2008年，现位于北京市昌平区回龙观北京国际信息产业基地高新二街2号4层，拥有1800余平方米的组装、调试车间、办公区，现在我们更专注于真空等离子体技术，成为集研发、设计、生产、销售于一体的设备制造商。

　　公司通过了ISO质量管理体系认证，获批高新技术企业，拥有4项发明及十余项实用新型，北京创世威纳紧跟世界技术步伐，不断提供技术、性能优良的镀膜设备、刻蚀设备、真空应用定制设备及各类真空等离子体设备，应用于各研究院所、大专院校、企业单位。创世威纳在所有客户、合作伙伴、供应商及各界朋友的支持和帮助下走过了难忘的十年。

　　十年来，我们本着“始于客户需求，终于客户满意”的理念，不断实现技术和产品创新，追求品质和服务，创世威纳真诚地与广大用户和合伙作伴共赢合作，携手共创未来

品牌榜 2号馆 展位 2F32

北京创世威纳科技有限公司

主营产品：物理气相沉积设备（磁控溅射、离子束溅射、电子束蒸发、热阻蒸发设备）、等离子体化学气相沉积设备(PECVD)、干法刻蚀设备（感应耦合等离子体刻蚀ICP、反应离子刻蚀RIE、离子束刻蚀IBE）等真空等离子体设备。